CNC Video Measuring System (NEXIV)[W.F.O.V] VMA-2520개요넓은 FOV, 빠른 속도, 다양한 기능Nikon의 비접촉3차원 측정기 NEXIV의 VMA시리즈는저배율 광학 줌헤드를 기반으로넓은FOV, 고속 AF 등에 적합한 샘플에 유연하게 대응 할 수 있습니다.VMZ-R보다 낮은 가격대로 형성되어 있으며,측정 이외에도 자동 이미지 병합, EDF, 3D 프로파일러 등다양한 기능을 구성하여 범용적으로 사용 할 수 …
CNC Video Measuring System (NEXIV)[고정밀도] VMZ-H3030개요0.6um의 가장높은 정밀도, 빠른 속도, 다양한 기능Nikon의 비접촉3차원 측정기 NEXIV는 광학 줌헤드를 기반으로다양한 시편의 배율, 시편의 크기 등에 유연하게 대응 할 수 있습니다.높은 스테이지 정확도와 측정 정밀도는 빠르게 측정하기 위한장비의 기본 밑바탕이 됩니다.측정 이외에도 자동 이미지 병합, EDF, 3D 프로파일러 등다양한 기능을 구성하여 범용적으로 사용 …
CNC Video Measuring System (NEXIV)[표준모델] VMZ-R6555개요높은 정밀도, 빠른 속도, 다양한 기능Nikon의 비접촉3차원 측정기 NEXIV는 광학 줌헤드를 기반으로다양한 시편의 배율, 시편의 크기 등에 유연하게 대응 할 수 있습니다.높은 스테이지 정확도와 측정 정밀도는 빠르게 측정하기 위한장비의 기본 밑바탕이 됩니다.측정 이외에도 자동 이미지 병합, EDF, 3D 프로파일러 등다양한 기능을 구성하여 범용적으로 사용 할 수 …
CNC Video Measuring System (NEXIV)[표준모델] VMZ-R4540개요높은 정밀도, 빠른 속도, 다양한 기능Nikon의 비접촉3차원 측정기 NEXIV는 광학 줌헤드를 기반으로다양한 시편의 배율, 시편의 크기 등에 유연하게 대응 할 수 있습니다.높은 스테이지 정확도와 측정 정밀도는 빠르게 측정하기 위한장비의 기본 밑바탕이 됩니다.측정 이외에도 자동 이미지 병합, EDF, 3D 프로파일러 등다양한 기능을 구성하여 …
CNC Video Measuring System (NEXIV)[표준모델] VMZ-R3020개요높은 정밀도, 빠른 속도, 다양한 기능Nikon의 비접촉3차원 측정기 NEXIV는 광학 줌헤드를 기반으로다양한 시편의 배율, 시편의 크기 등에 유연하게 대응 할 수 있습니다.높은 스테이지 정확도와 측정 정밀도는 빠르게 측정하기 위한장비의 기본 밑바탕이 됩니다.측정 이외에도 자동 이미지 병합, EDF, 3D 프로파일러 등다양한 기능을 구성하여 범용적으로 사용 할 수 …
CNC Video Measuring System (NEXIV)[표준모델] VMZ-S3020개요높은 정밀도, 빠른 속도, 다양한 기능VMZ-R3020 은 단종되었으며, VMZ-S3020 모델로 새롭게 출시 하였습니다.Nikon의 비접촉3차원 측정기 NEXIV는 광학 줌헤드를 기반으로다양한 시편의 배율, 시편의 크기 등에 유연하게 대응 할 수 있습니다.높은 스테이지 정확도와 측정 정밀도는 빠르게 측정하기 위한장비의 기본 밑바탕이 됩니다.측정 이외에도 자동 이미지 병합, …
Wafer Handlermechatronic Wafer Sorter개요경제적인 웨이퍼 매니지먼트 자동화된 웨이퍼 이송 장비는 제조 공정 전반에 걸쳐 각 웨이퍼를 추적하고 손상 및 파티클 오염의 위험을 완벽히 제거하는 역할을 합니다. 반도체 산업의 경제적인 매니지먼트를 위해서는 이러한 Wafer Sorter의 도입이 필수적입니다.메카트로닉의 mWS 시리즈는 최신형 기술의 웨이퍼 자동 분류장비로, 초박막 또는 휜(Warped) 웨이퍼를 안전하게 취급하는 새로운 표준입니다. 또한 모듈식 설계 …
Wafer Handlermechatronic Wafer Loader개요초박막 웨이퍼 핸들링 솔루션 제조 공정 기술의 발전에 따라 웨이퍼는 점점 더 얇아지고 있으며, 검사장비 혹은 후 처리 과정에서 매우 얇고 휜 웨이퍼를 처리할 수 있는 기술이 필요로 되고 있습니다.메카트로닉의 웨이퍼 로더는 반도체 산업에서 필요로 하는 최고 수준의 안전성과 신뢰도로 50um 두께의 초박막 웨이퍼를 핸들링 할 수 …
LASER 미세가공장치NEL-150i개요LASER 미세가공장치레이저 미세 가공장비 NEL-150i■ 고출력 YAG 레이저 발진기 및 광학 현미경, 정밀 X,Y Stage를 조합한 반도체 Wafer용 초정밀 Laser가공 장치■ Stage를 제어하고 외부 Interface에서 주어진 좌표로 작업을 쉽게 Positioning■ 가공용 YAG LASER를 현미경 대물 LENS를 통해 Taget에 조사하여 마킹 가능특징■ NUV에 의한 고분해능 …
MASK/Wafer 측정기AMFiM개요Mask 선폭 측정기해당 제품은 9인치 이하 포토마스크 선폭과 좌표의 자동측정이 가능합니다.
고 정도 스테이지와 독자 개발한 광학계를 채용하여 간단한 조작으로 높은 재현성을 얻을 수 있습니다.
i선 LED 광선을 채용하여 메인터넌스가 용이합니다. 스펙●주요사양측정대상마스크
9인치 이하대상 선폭
0.5～30μm（시야 내 계측）
30～500μm（스테이지 이동 …
Nikon Mini StepperNikon Engineering Stepper개요축소 투영 노광장치 MEMS 스테퍼 시리즈MEMS 디바이스의 다양화에 대응2～6인치 웨이퍼 대응(NES1), 6～8인치 웨이퍼 대응(NES2)
MEMS용 R&D 용도에서 양산까지 1대로 대응 가능
다양한 기판 사이즈 / 형태, 접착, 변형 등 커스텀 대응 가능
깊은 DOF로 두꺼운 PR 노광대응
IR 투과 얼라인먼트,Back면 얼라인먼트 가능(Option）
Small …
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