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MASK/Wafer 측정기BSM
개요
Wafer 양면 좌표 측정기
특징
– Wafer 양면 좌표 측정
– 양면 패턴사이 좌표 편차 측정
– 측정 재현성 3σ ≦ 100nm
– 노광기와 연계 운용
카탈로그
BSM(K)
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