MASK/Wafer 측정기AMFiM 개요

MASK/Wafer 측정기AMFiM

개요

Mask 선폭 측정기

해당 제품은 9인치 이하 포토마스크 선폭과 좌표의 자동측정이 가능합니다.
고 정도 스테이지와 독자 개발한 광학계를 채용하여 간단한 조작으로 높은 재현성을 얻을 수 있습니다.
i선 LED 광선을 채용하여 메인터넌스가 용이합니다.

 

스펙

●주요사양

측정대상마스크9인치 이하
대상 선폭0.5～30μm（시야 내 계측）
30～500μm（스테이지 이동 계측）
선폭 측정 재현성　※1 ※23σ≦5nm
좌표 측정 재현성　※13σ≦15nm
스루풋　※1선폭측정：　8분 30초 이하
좌표측정：　13분 이하

※1　당사 지정 측정조건인 경우
※2　선폭 30μｍ 이하인 경우

카탈로그

  • AMFiM (JPN/ENG)

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